更新時(shi)間(jian)：2025-01-07
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廠(chang)商(shang)性(xing)質(zhi)：生(sheng)產廠(chang)家
生(sheng)產地(di)址(zhi)：
| 品(pin)牌(pai) | 智(zhi)感(gan)環(huan)境 | 供貨(huo)周(zhou)期 | 現(xian)貨(huo) |
|---|
1、組(zu)成(cheng)與(yu)結構(gou)
平(ping)板(ban)式雙(shuang)面(mian) DGT外殼如(ru)下(xia)圖(tu)。圖(tu)中A、B為平(ping)板(ban)式結(jie)構(gou)的(de)兩個(ge)基(ji)礎(chu)組(zu)件，A為放(fang)置(zhi)膜的底板，用(yong)於放(fang)置(zhi)三層膜，B為蓋(gai)板(ban)，起(qi)到固定三層膜、密(mi)封(feng)底板外(wai)緣(yuan)的作(zuo)用，固(gu)定後(hou)的A、B構(gou)成(cheng)平(ping)板(ban)裝置(zhi)C，暴露(lu)窗口(kou)的長(chang)度150mm、寬度20mm，目標(biao)離(li)子(zi)通(tong)過(guo)暴露窗口(kou)進入DGT擴散層。
Zr-oxide & ZrO-Chelex DGT產品(pin)結構(gou)
DGT外殼的(de)底部(bu)縱(zong)向(xiang)結(jie)構(gou)，使(shi)裝置(zhi)暴露(lu)面至底部(bu)在(zai)兩(liang)個(ge)平(ping)面(mian)上，底部呈三角形，這(zhe)種結(jie)構(gou)可(ke)以壹(yi)定程度的減小(xiao)裝置(zhi)插入對沈積物界面的(de)破壞作(zuo)用(yong)，同時(shi)DGT暴露(lu)面(mian)與(yu)沈積物貼合(he)，減少上覆水(shui)下(xia)灌對測定的幹擾。
2、規(gui)格(ge)與(yu)參(can)數
目標物 | P二維(wei) & 16種(zhong)陰(yin)陽離(li)子(zi) (Fe、Cd、Co、Cu、 Mn、Zn、 Pb、Ni、As、Cr、Mo、Sb、Se、V、W) |
固定膜 | Zr-oxide & ZrO-Chelex固定膜，厚度0.40 mm，長(chang)*寬為(wei)150*20mm |
濾(lv)膜 | PVDF, 厚度0.10 mm，長(chang)*寬為(wei)150*20mm |
擴散系(xi)數 | 參(can)考(kao)“技術支持(chi)-智(zhi)感(gan)用(yong)戶使用(yong)手冊" |
采樣(yang)面(mian)積(ji) | 150*20mm2 |
包(bao)裝(zhuang) | 單個(ge)獨(du)立包(bao)裝，無菌鋁箔袋，密(mi)封(feng)濕潤(run)保存(cun)，包(bao)裝(zhuang)袋避(bi)光(guang) |
保(bao)存(cun)期限 | 常溫(wen)條(tiao)件避(bi)光(guang)保(bao)存(cun)12個(ge)月(yue) |
3、產品(pin)優(you)勢(shi)
(1) 可(ke)同步(bu)測定P二維(wei) & 16種(zhong)陰(yin)陽離(li)子(zi) (Fe、Cd、Co、Cu、 Mn、Zn、 Pb、Ni、As、Cr、Mo、Sb、Se、V、W)；
（2）多指標同步(bu)測定；
（3）原位采(cai)樣(yang)與(yu)監測，對原生(sheng)環(huan)境破(po)壞性(xing)小(xiao)；
（4）測定容量(liang)高、抗環(huan)境幹擾能(neng)力強(qiang)。
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